| Cветочувствительное покрытие, позволяющее фотокопировать линии, формы и контуры. Он предлагает относительно простую процедуру аккуратного переноса любого изображения на самые различные материалы. POSITIV RESIST легок в применении, быстро высыхает, обеспечивает хорошую контрастность и высокую точность.Производство отдельных печатных плат или их мелких серий. Изготовление лицевых панелей и вывесок, градуировка, также используется для изготовления матриц в гравировании, для травления на меди, латуни и других материалах. Очистка: обезжирить поверхность перед нанесением. Нанесение: с расстояния около 20 см, пока не появится видимая пленка, работать в условиях отсутствия пыли, время высыхания &ndash, 30-60 мин при 20С, лучше &ndash, 15 мин при 70С. Экспонирование: лампа с высоким содержанием ультрафиолета, предпочтительно кварцевая с мягкой частью УФ спектра, время экспонирования зависит от лампы, как правило &ndash, от 30 до 60 сек. Проявление: свежеприготовленный раствор КОН (5-7 г на 1 л воды), можно использовать кальцинированную соду более высокой концентрации, можно использовать NaOH. Травление: хлорное железо или персульфат аммония, порядка 10 мин, перемешивая. Смывка: ацетон. Густо-фиолетового цвета, плотность 0,85 г/см 3, время высыхания 30-60 мин (20 o C), светочувствительность 310 - 440 нм, максимум 330 - 420 нм. |
